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FHR-ALD 原子层沉积

• ALD / FHR

原子层沉积 精确控制原子单层堆叠的成长 ALD反应器工具的特质:…

FHR Star Star600^EOSS®

• FHR / Star

用于在具有平坦和曲面的大基材上沉积光学干涉涂层的溅射系统…

FHR Star Star500^EOSS®

• FHR / Star

使用最高精确度沉积光学层堆叠的工业磁控溅射系统 System description系统叙述…

FHR Star 300

• FHR / Star

标准兼容半导体的薄膜制程平台应用于微电子和光学的工业制造…

FHR Star 220

• FHR / Star

适用于功能性膜层和晶片类基材处理工艺的多功能薄膜工艺设备…

FHR Star 150 ^Co

• FHR

适于功能性膜层沉积的共溅射设备 应用于传感器、微电子和光电子领域…

FHR Star 100^TetraCo

• FHR / Star

用于多功能膜层沉积的共溅射设备 适于传感器 , 微电子和光电子领域应用…

FHR Roll 1600 ^ITO

• FHR / Roll

卷对卷柔性镀膜设备适于柔性电子和最高水平显示屏大规模量产…

FHR Roll 300 ^PVD

• FHR / Roll

适于金属箔和塑料膜处理和功能性膜层工艺的卷对卷镀膜设备…

FHR Line 2500 ^TCO

• Line / FHR

用于沉积透明导电氧化物（TCO）的磁控溅射系统 Description of system沉积系统…

FHR Line 600 V

• 特殊材料 / Line / FHR

双面沉积使用载体转动装置的紧凑型在线涂布系统 System description…

FHR.Boxx.400^PVD

• FHR / Boxx

单腔室磁控溅射设备 适于光学, MEMS &传感器的小批量生产 设备介绍…