单腔室磁控溅射设备 适于光学, MEMS &传感器的小批量生产 
设备介绍
我公司FHR.Boxx系列单腔室溅射设备–也称作箱式镀膜设备–为种类繁多的不同基底的小批量生 产任务提供了极具吸引力的低成本解决方案。 基底以手动方式被放置于工艺腔室内的旋转鼓上。 通过开启旋转鼓，基底将在不同的工艺单元间传送，通过多 溅射源的依次镀膜以及/不含等离子刻蚀方式的预处理工艺， 最终实现厚度均匀的膜层制备。 复杂几何结构的基底可选择 配置子旋转系统实现厚度均匀的膜层沉积。
工艺范围
磁控溅射(直流或射频方式) 预处理(例如，等离子刻蚀)
客户优势
结构紧凑 < span style="vertical-align: inherit;">便于维护，所有部件易于触及 洁净室内使用设备，可通过洁净室隔离墙实现 投资和运行成本极具吸引力 
单腔室磁控溅射设备 适于光学, MEMS &传感器的小批量生产
关键指标
特殊指标
- PLC工艺控制
- CE 认证
- 德国制造
可选项目
- 基底加热
- 按需提供反应溅射
- 进样室(见FHR.Boxx.400-LL)
典型应用
- MEMS & 传感器领域功能膜
- 照明领域光学膜
- 装饰膜
- 多层膜溅射
