使用最高精确度沉积光学层堆叠的工业磁控溅射系统
System description系统叙述
FHR.Star.600-EOSS®磁控溅射系统设计用于制造干涉光学系统。它是专门发展用于沉积多层光学层的真空镀膜系统，满足对层厚度均匀性和层质量的最高要求。溅射能力的上升能产生无瑕疵的层。溅射系统适用于加工直径达200毫米的平坦和弯曲的基板。它具有基板加热器。
Process制程
- 采用圆柱型磁控管的溅射沉积（DC或MF模式）
- 采用平面磁控管的溅射沉积（DC，MF或RF模式）
- 用于金属层氧化的电浆体源
Customer benefits客户效益
- 具有优异的膜层均匀性能由定位长膜监测
- 无颗粒异物沉积由圆柱形磁控管的溅射整齐排列
- 延长靶材使用率寿命是管状靶材具有最小的磨损漂移（<0.5％）
- 全自动制程控制
- 配套程序生成器具有最大的制程灵活性
Key figures关键数据
Special features特别商标
- CE 商标
- 德国制造
Typical applications典型应用
- 高折射率氧化物,例如带有MF双圆柱磁控管Nb22O5, Ta2O5
- 低折射率氧化物，例如带有MF双圆柱磁控管的SiO2
- 在RF模式下于平面磁控管上使用陶瓷靶材的电介质层
- 多层，例如 50×，200×，500×
