FHR Star Star600^EOSS®

用于在具有平坦和曲面的大基材上沉积光学干涉涂层的溅射系统

System description系统叙述

FHR.Star.600-EOSS®磁控溅射系统设计用于制造干涉光学系统。它是专门发展用于沉积多层光学层的真空镀膜系统，满足对层厚度均匀性和层质量的最高要求。溅射能力的上升能产生无瑕疵的层。溅射系统适用于制程直径达300毫米或280×330×50毫米³的平坦和弯曲基材。它具有基板加热器的特色。

Process制程

 
• 采用圆柱型磁控管的溅射沉积（DC或MF模式）

 

• 采用平面磁控管的溅射沉积（DC，MF或RF模式）

 

• 用于金属层氧化的电浆体源

Customer benefits客户效益

 
• 具有优异的膜层均匀性能由定位长膜监测

 

• 无颗粒异物沉积由圆柱形磁控管的溅射整齐排列

 

• 延长靶材使用率寿命是管状靶材具有最小的磨损漂移（<0.5％）

 

• 全自动制程控制

 

• 配套程序生成器具有最大的制程灵活性

Key figures关键数据

Special features特别商标

 
• CE 商标

 

• 德国制造

Typical applications典型应用

 
• 高折射率氧化物,例如带有MF双圆柱磁控管Nb2₂O₅, Ta₂O ₅

 

• 低折射率氧化物，例如带有MF双圆柱磁控管的SiO2

 

• 在RF模式下于平面磁控管上使用陶瓷靶材的电介质层