适于金属箔和塑料膜处理和功能性膜层工艺的卷对卷镀膜设备
设备介绍
FHR.Roll.300-PVD 卷对卷镀膜设备基于镀膜工艺鼓，通过单向卷绕物理气相沉积溅射方式对宽度最大300mm的金属箔和塑料膜进行膜层沉积工艺，过程中应用夹层辊。本设备可根据客户需要进行设计调整。 卷对卷设备被设计为镀膜前后不接触卷膜镀膜面。夹层辊将在放卷和收卷区域使用。 设备总体设计基于一个不锈钢腔室，该腔室被两个压力式门阀分隔为一个卷绕区和一个工艺区，可在工艺区不破真空的条件下实现对卷绕区的排空。工艺区包含一个工艺鼓，其周围环绕安放 四个平面溅射源和一个清洗/刻蚀预处理装置。 同样的设备也可安装四个旋转溅射源。鉴于能够提供高低不同溅射速率的灵活性，我公司FHR.Roll.300-PVD产品系列能够非常好的适应科研和工业领域各种先进研发机构和批量产线的需求。
工艺范围 
- 运用平面和旋转磁极的磁控溅射(直流和射频模式)
- 预处理(比如，等离子体刻蚀或离子刻蚀源)
- 镀膜前后不接触卷膜镀膜面(AVOTouch技术)
- 应用夹层辊
客户优势
- 经验证、测试可靠的设备理念
- 低投资及低运作成本
- 根据客户需求定制磁极构造
- 仅需排空进样室实现快速装载/卸载
- 靶材更换迅速简易
关键指标
特殊指标
- 卷膜在辊轮和中央工艺鼓间的卷对卷传输
- 通过冷却或加热实现整体基材温度控制
- 全自动工艺控制
- 兼容洁净室隔离室
- 净室隔离室 CE 认证
- 德国制造
典型应用 
- 柔性电子和电池技术领域接触层、 绝缘层和阻挡层沉积
- 光学和功能性膜层的沉积
