使用最高精確度沉積光學層堆疊的工業磁控濺射系統
System description系統敘述
FHR.Star.600-EOSS®磁控濺射系統設計用於製造干涉光學系統。它是專門發展用於沉積多層光學層的真空鍍膜系統，滿足對層厚度均勻性和層質量的最高要求。濺射能力的上升能產生無瑕疵的層。濺射系統適用於加工直徑達200毫米的平坦和彎曲的基板。它具有基板加熱器。
Process製程
- 採用圓柱型磁控管的濺射沉積（DC或MF模式）
- 採用平面磁控管的濺射沉積（DC，MF或RF模式）
- 用於金屬層氧化的電漿體源
Customer benefits客戶效益
- 具有優異的膜層均勻性能由定位長膜監測
- 無顆粒異物沉積由圓柱形磁控管的濺射整齊排列
- 延長靶材使用率壽命是管狀靶材具有最小的磨損漂移（<0.5％）
- 全自動製程控制
- 配套程序生成器具有最大的製程靈活性
Key figures關鍵數據
Special features特別商標
- CE 商標
- 德國製造
Typical applications典型應用
- 高折射率氧化物,例如帶有MF雙圓柱磁控管Nb22O5, Ta2O5
- 低折射率氧化物，例如帶有MF雙圓柱磁控管的SiO2
- 在RF模式下於平面磁控管上使用陶瓷靶材的電介質層
- 多層，例如 50×，200×，500×
