FHR

FHR ALD 100

• ALD / FHR

原子層沉積 精確控制原子單層堆疊的成長 ALD反應器工具的特質:…

FHR ALD 150

• ALD / FHR

原子層沉積 精確控制原子單層堆疊的成長 ALD反應器工具的特質:…

FHR ALD 300

• ALD / FHR

FHR ALD 300 原子層沉積 精確控制原子單層堆疊的成長 ALD反應器工具的特質:…

FHR-ALD 原子層沉積

• ALD / FHR

原子層沉積 精確控制原子單層堆疊的成長 ALD反應器工具的特質:…

FHR Star Star600^EOSS®

• FHR / Star

用於在具有平坦和曲面的大基材上沉積光學干涉塗層的濺射系統…

FHR Star Star500^EOSS®

• FHR / Star

使用最高精確度沉積光學層堆疊的工業磁控濺射系統 System description系統敘述…

FHR Star 300

• FHR / Star

標準兼容半導體的薄膜製程平台應用於微電子和光學的工業製造…

FHR Star 220

• FHR / Star

用於功能性塗佈與處理晶圓狀基材的多用途薄膜系統 System description系統敘述…

FHR Star 150 ^Co

• FHR / Star

用於傳感器應用，微電子和光電子功能層沉積的共同濺射系統…

FHR Star 100^TetraCo

• FHR / Star

用於傳感器應用，微電子和光電子功能層沉積的共同濺射系統…

FHR Roll 1600 ^ITO

• FHR / Roll

卷對卷式捲筒塗佈系統用於批式生產軟性電子產品和最先進的顯示器…

FHR Roll 300 ^PVD

• FHR / Roll

卷對卷沉積系統採用AVO觸控技術處理在金屬和塑料箔上的功能塗層…

FHR Line 2500 ^TCO

• Line / FHR

用於沉積透明導電氧化物（TCO）的磁控濺射系統 Description of system沉積系統…

FHR Line 600 V台灣

• Line / FHR

雙面沉積使用載體轉動裝置的緊湊型在線塗佈系統 System description…

FHR.Boxx.400^PVD

• FHR / Boxx

單腔室磁控濺射設備 適於光學, MEMS &傳感器的小批量生產 設備介紹…