FHR Star Star600^EOSS®

用於在具有平坦和曲面的大基材上沉積光學干涉塗層的濺射系統

System description系統敘述

FHR.Star.600-EOSS®磁控濺射系統設計用於製造干涉光學系統。它是專門發展用於沉積多層光學層的真空鍍膜系統，滿足對層厚度均勻性和層質量的最高要求。濺射能力的上升能產生無瑕疵的層。濺射系統適用於製程直徑達300毫米或280×330×50毫米³的平坦和彎曲基材。它具有基板加熱器的特色。

Process製程

• 採用圓柱型磁控管的濺射沉積（DC或MF模式）
• 採用平面磁控管的濺射沉積（DC，MF或RF模式）
• 用於金屬層氧化的電漿體源

Customer benefits客戶效益

• 具有優異的膜層均勻性能由定位長膜監測
• 無顆粒異物沉積由圓柱形磁控管的濺射整齊排列
• 延長靶材使用率壽命是管狀靶材具有最小的磨損漂移（<0.5％）
• 全自動製程控制
• 配套程序生成器具有最大的製程靈活性

Key figures關鍵數據

Special features特別商標

• CE 商標
• 德國製造

Typical applications典型應用

• 高折射率氧化物,例如帶有MF雙圓柱磁控管Nb2₂O₅, Ta₂O₅
• 低折射率氧化物，例如帶有MF雙圓柱磁控管的SiO2
• 在RF模式下於平面磁控管上使用陶瓷靶材的電介質層