單腔室磁控濺射設備 適於光學, MEMS &傳感器的小批量生產 
設備介紹
我公司FHR.Boxx系列單腔室濺射設備–也稱作箱式鍍膜設備–為種類繁多的不同基底的小批量生 產任務提供了極具吸引力的低成本解決方案。 基底以手動方式被放置於工藝腔室內的旋轉鼓上。 通過開啟旋轉鼓，基底將在不同的工藝單元間傳送，通過多 濺射源的依次鍍膜以及/不含等離子刻蝕方式的預處理工藝， 最終實現厚度均勻的膜層製備。複雜幾何結構的基底可選擇 配置子旋轉系統實現厚度均勻的膜層沉積。
工藝範圍
磁控濺射(直流或射頻方式) 預處理(例如，等離子刻蝕)
客戶優勢
結構緊湊 便於維護，所有部件易於觸及 潔淨室內使用設備，可通過潔淨室隔離牆實現 投資和運行成本極具吸引力 
單腔室磁控濺射設備 適於光學, MEMS &傳感器的小批量生產
關鍵指標
特殊指標
- PLC工藝控制
- CE 認證
- 德國製造
可選項目
- 基底加熱
- 按需提供反應濺射
- 進樣室(見FHR.Boxx.400-LL)
典型應用
- MEMS & 傳感器領域功能膜
- 照明領域光學膜
- 裝飾膜
- 多層膜濺射
