FHR ALD 100

原子層沉積 精確控制原子單層堆疊的成長 ALD反應器工具的特質:…

FHR ALD 150

原子層沉積 精確控制原子單層堆疊的成長 ALD反應器工具的特質:…

FHR ALD 300

FHR ALD 300 原子層沉積 精確控制原子單層堆疊的成長 ALD反應器工具的特質:…

FHR Star 300

標準兼容半導體的薄膜製程平台應用於微電子和光學的工業製造…
  • 1
  • 2
Close Menu